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Plasmaanlagen von Diener electronic haben sich längst in den verschiedensten Industriebereichen durchgesetzt. Mit der Niederdruck Plasmaanlage Zepto setzten Sie auf die moderne und zukunftssichere kalte Plasmatechnologie im Vakuum. Das Kammervolumen von ca. 1 - 4 Liter dieses Plasmasystems bietet genügend Raum um Labor und auch Kleinstserienfertigungen zu bedienen.
Die Plasmabehandlung im Niederdruck-Plasma ist eine bewährte Technik zur kontrollierten Feinstreinigung, Verbesserung der Adhäsion (Aktivierung und Ätzung) und Beschichtung dünner Schichten auf Substratoberflächen. Plasma wird durch den Einsatz hochfrequenter Spannung in der Vakuumkammer erzeugt. Dabei wird das dort eingeleitete Prozessgas ionisiert.
Anwendungsgebiete:
VOC-freie Reinigung von organischen Rückständen auf Silikon, Kunststoff, Kupfer, Nickel, …
Aktivierung vor dem Lackieren, Kleben, Vergießen, …
Die Zepto Plasmasysteme kommen überwiegend in folgenden Bereichen zum Einsatz:
Analytik, Archäologie, Automotive, Forschungs- und Entwicklungsabteilungen, Halbleitertechnik, Kleinserienfertigung, Kunststofftechnik, Medizintechnik, Mikrosystemtechnik, Sensorik, Sterilisieren, Textiltechnik
Diener electronic bietet zukunftsweisende Lösungen in den Bereichen:
- Niederdruck Plasmaanlagen zur Oberflächenbehandlung
- Atmosphärendruck Plasmaanlagen zur Oberflächenbehandlung
- Parylene-Beschichtungsanlagen
- Aluminium Vakuumkammern aus einem einzigartig, flexiblem und patentiertem Kammersystem
- Vakuum-Komplettsysteme und Anlagen für verschiedenste Einsatzbereiche
- Test-Tinten zur Bestimmung der Oberflächenspannung
- Plasmaindikatoren zum Nachweis einer erfolgreichen Plasmabehandlung
- Plasmageneratoren
Abmessungen (Tischgerät): 269 - 423 mm x 300 - 443 mm x 176 - 290 mm (BxHxT)Vakuumkammer Material: Borosilikatglas (HP), RIE - Glocke Aluminium, Kalk-Natron-GlasVakuumkammer Abmessungen: Ø 105 mm Tiefe 200/300 mm // Ø 190 mm Tiefe 60 mm // 135x120x65 mmVakuumkammer Volumen: ca. 1 - 4 LiterVakuumkammer Verschluss: Deckel, ScharniertüreGaszufuhr: Nadelventile, Mass Flow Controller (MFCs)Generator: 40/100 kHz - 0-100 W // 13,56 MHz - 0-200 W // 2,45 GHz - 0-150 WElektroden: Die Elektrode außerhalb der VakuumkammerSteuerung: Manuell, Drehschalter, Basic PC-Steuerung (Windows CE)Spannungsversorgung: 230 V / 50 - 60 Hz
UNTER DEN PRODUKTEN PLASMAENTLADUNG, KORONAENTLADUNG VON Diener electronic GmbH & Co. KG
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